報告摘要： 　　電子特種氣體是光電子、微電子等領域，特別是超大規模集成電路、液晶顯示器件、半導體發光器件和半導體材料制造過程不可缺少的基礎性支撐源材料。它的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質量、集成度、特定技術指標和成品率，并從根本上制約著電路和器件的精確性和準確性。 　　高純三氟化氮（NF3），在集成電路、大型屏幕液晶顯示屏（TFT-LCD）的生產中，作為清洗劑之用。由于它作為刻蝕劑和清洗劑具有快速、高效等優點，目前無論在世界上，還是我國國內，都有著很大的發展空間。 　　2004年世界NF3的生產能力達到了3640噸左右。具有年產百噸生產能力的生產廠家已有9家。目前我國在NF3氣體的年生產能力為300噸左右。而實際生產量在2004年約有30噸。我國在NF3氣體的應用市場上，2004年需求約為200噸，并且在今后幾年中，其需求量是以50%的年增長率在快速增加。預計在2006年我國市場需求量將達到400噸左右，到2009年達到1000噸左右的需求。為此看出，我國在半導體和TFT液晶方面用高純NF3氣體的市場缺口甚大。 　　本報告從NF3的特性；主要生產工藝技術；主要應用領域；世界市場現狀與發展；世界生產現狀與發展；國內市場現狀與發展；國內生產及研發現狀；國內在NF3氣體方面的知識產權情況；NF3生產的經濟效益與投資風險分析等九個方面進行的調研，并且進行了深入分析。本報告所引入的相關數據，均進行了多方面的核實，具有準確性、權威性。本報告是提供給籌建NF3廠家、了解此市場的經營者、關注此產業發展的機構等的一份必要參考資料。